Indice
Introduzione
01Capitolo I
Sensori di monossido di carbonio
1.
Introduzione
03 2.Il monossido di Carbonio
04 3.I sensori chimici
05 3.1 Caratteristiche fondamentali 06 3.2 Principio di funzionamento 08 3.2.1 Adsorbimento fisico 10 3.2.2 Adsorbimento chimico 13 3.2.3 Isoterma di adsorbimento 153.2.4 Superficie specifica degli adsorbanti 18
4.
I sensori di monossido di Carbonio
194.1 Scelta del materiale sensibile 23
4.2 I sensori realizzati con il silicio poroso 28
Capitolo II
Metal-assisted chemical etching
1.
Introduzione
362.
Il silicio poroso e le sue proprietà
363.
Produzione del silicio poroso
393.1 Anodizzazione 40
iv
Bibliografia
3.2 Attacco Stain 45
4.
Metal-assisted chemical etching
474.1 Reazioni chimiche 50
4.1.1 Ruolo del metallo 53
4.1.2 Processo di attacco completo 54
4.2 Modelli di diffusione 55
4.3 Influenza del metallo nobile sull’attacco 57
4.4 Influenza della soluzione di attacco 64
4.5 Influenza della temperatura 69
4.6 Influenza del tipo di substrato 71
4.6.1 Orientazione del substrato 71
4.6.2 Tipo e livello del drogaggio 74
Capitolo III
Fabbricazione e caratterizzazione di
un materiale mesostrutturato Si/Au
per la rilevazione di CO
1.
Introduzione
762.
Sintesi e caratterizzazione del materiale composito
Au/Si
772.1 Scelta dell’oro 78
2.2 Produzione del layer di Au/Si 81
2.3 Caratterizzazione dello strato sensibile 87
2.1.1 Con o senza RTA? 87
2.1.2 Calcolo del tempo di attacco 92
3.
Sintesi e caratterizzazione del PSJFET
963.1 Processo di fabbricazione del PSJFET 97
v
Bibliografia
3.1.2 Risultato finale della fabbricazione 106
3.2 Caratterizzazione del PSJFET 107
3.2.1 Strumentazione utilizzata 109
3.2.2 Caratterizzazione elettrica 111
