Abbiamo visto in precedenza che movimento di dislocazioni su un piano reticolare (
di-slocation glide) non porta ad alcuna deformazione interna o rotazione del reticolo cristallino
1
(a) (b)
Figura 5.3 Sviluppo di una tessitura a seguito del processo di geminazione, in grigio la parte del cristallo che ha subito geminazione. (a) Aggregato cristallino all’inizio della deformazione. (b) Aggregato alla fine della deformazione, a tratteggio è indicata una direzione cristallografica (es. asse cristallografico 𝑐 ).
(b) (a)
C M C M
Figura 5.4 (a) Cristallo indeformato. (b) Modificazione della sua forma esterna a seguito del movimento di dislocazioni su piani reticolari: una qualsiasi direzione cristallografica (C) non subisce alcuna riorientazione, mentre una linea definita da un allineamento di punti materiali (M) ruota nella direzione del taglio applicato.
(Fig. 2.1). Quando le dislocazioni raggiungono il limite del cristallo si ha solamente una
variazione della forma esterna del cristallo. In una deformazione per dislocation glide di
conseguenza una direzione cristallografica qualsiasi nel cristallo (es. direzione C in Fig. 5.4)
non subisce alcuna riorientazione, mentre una linea definita dall’allineamento di punti
materiali (M in Fig. 5.4) ruota secondo le regole dello strain di taglio. Ciò significa che il
meccanismo di dislocation glide non porta di per sé ad alcuna tessitura, il che sembrerebbe
contrastare con l’osservazione che in rocce dove questo meccanismo deformativo è attivo
esistono orientazioni cristallografiche preferenziali.
La Fig. 5.5 illustra come durante dislocation glide sia possibile invece una riorientazione
del reticolo cristallino, e perciò lo sviluppo di una tessitura, a causa di una rotazione passiva
indotta da problemi di compatibilità di strain.
Supponiamo di avere un cristallo con un solo sistema di piani reticolari su cui si ha
preferenzialmente movimento di dislocazioni e perciò scorrimento (piani con basso Critical
Resolved Shear Stress, Fig. 5.5a). Supponiamo di deformare questo cristallo applicando uno
stress verticale mediante due pistoni rigidi con facce orizzontali tra loro parallele. Tale
situazione si può realizzare molto facilmente in natura, ad esempio quando un cristallo
è costretto a deformarsi tra due grani “rigidi” per taglio puro o per taglio semplice. In
Fig. 5.5a i piani reticolari su cui si ha scorrimento sono a 45° da 𝜎
1. Con un solo sistema di
scorrimento il cristallo può deformarsi solamente come illustrato in Fig. 5.5b e le facce del
cristallo non possono rimanere orizzontali e parallele a se stesse durante la deformazione.
Vi sono quindi problemi di compatibilità di strain, con formazione di vuoti. Per acquisire
(a) 45°
C
M
45° (d) (b)C
A 45° 1 1 18.43° C 45° M 26.57° =45° 5.15° (c) S: angolo di taglio lungo il sistema di scivolamento
C : angolo di rotazione di un asse
cristallografico rispetto ad un sistema di coordinate esterno
M : angolo di rotazione di una linea materiale rispetto ad un sistema di coordinate esterno
S : angolo di rotazione dell'asse maggiore dell'ellisse dello strain rispetto ad un sistema di coordinate esterno
d
d tan
Figura 5.6 Relazioni angolari per il cristallo deformato di Fig. 5.5c.
di scorrimento, che diventano cinque in tre dimensioni (Von Mises criterion). Poiché non
si devono formare dei vuoti durante la deformazione, il cristallo di Fig. 5.5b deve ruotare
in senso antiorario, in modo che la faccia superiore e inferiore del cristallo siano sempre
completamente a contatto con i pistoni (Fig. 5.5c).
Vediamo ora come alcune linee vengono ruotate durante la deformazione, confrontando
la Fig. 5.5a con la Fig. 5.5c (convenzione: angoli positivi in senso antiorario).
Angolo di taglio 𝜓
Gli atomi (punti in Fig. 5.5) sono traslati lungo i piani di scorrimento in modo da ottenere
un angolo di taglio 𝜓 = 45° rispetto ai piani di scorrimento stessi. La deformazione è di
taglio semplice e viene prodotto uno strain di taglio 𝛾 = tan 𝜓 se si considera come sistema
di riferimento i piani cristallografici di scorrimento del cristallo. La deformazione di taglio
semplice e lo strain di taglio si hanno quindi solamente in riferimento ad un sistema di
coordinate “interno” del cristallo.
Rotazione di un asse cristallografico rispetto ad un sistema di coordinate esterno
La direzione cristallografica C ruota durante la deformazione in riferimento ad un
sistema di coordinate esterno (a tratteggio in Fig. 5.5, direzioni costantemente parallele ed
ortogonali alle facce dei pistoni). Questa rotazione è detta “rotazione esterna”.
Poiché l’intero cristallo deve ruotare per rimanere a contatto con i pistoni, il senso di
rotazione del cristallo e quindi delle direzioni cristallografiche (senso orario nella figura)
deve essere opposto al senso di taglio (sinistro) lungo i piani di scorrimento.
L’entità della rotazione della direzione cristallografica C in senso orario può essere
calcolata dalla Fig. 5.6 che rappresenta la forma del cristallo deformato di Fig. 5.5c. Da tale
figura si ricava che:
𝑡 𝑎𝑛𝛽 =
𝑑
𝑑 + 𝑑 tan 𝜓
=
1
1 + tan 𝜓
(5.1)
si noti che la distanza “d” non cambia durante la deformazione; d è la metà della diagonale
del cristallo in Fig. 5.5a, parallela ai piani di scivolamento e durante taglio semplice le linee
parallele e perpendicolari al piano di taglio non subiscono variazioni di lunghezza. Il piano
di scorrimento rappresentato dalla diagonale minore di Fig. 5.6 forma un angolo 𝛽 con
le facce del pistone, mentre in origine era orientato a 45° rispetto ad esse. Si può quindi
calcolare la rotazione rispetto alle facce del pistone (𝐶 ) dell’asse cristallografico e dei piani
reticolari su cui si ha scorrimento, cioè la rotazione rispetto ad un sistema di coordinate
esterno:
𝐶 = 45
◦− tan
(
1
1 + tan 𝜓 )
= 18, 43
◦(5.2)
=31.72° =45°
Figura 5.7 Relazioni angolari per lo strain di taglio subito dal cristallo in Fig. 5.5c.